由于科技的日新月异,半导体芯片已愈朝微小化加以发展,而芯片多半是具有不
同的功效的电子组件,这些电子组件通常是使用焊锡加以焊接在设有电子回路的基板上,这样可使电子组件正常的运作,然而由于电子组件的微小化,芯片生产过程中产生的杂质会严重影响芯片的质量。因此,去除芯片生产过程中的杂质就是十分必要的。
SIP系统级封装清洗:POP堆叠芯片/Sip系统级封装在mm级别间距进行焊接,助焊剂作用后留下的活性剂等吸湿性物质,较小的层间距如存有少量的吸湿性活性剂足以占据相对较大的芯片空间,影响芯片可靠性。要将有限的空间里将残留物带离清除,清洗剂需要具备较低的表面张力渗入层间芯片,达到将残留带离的目的。合明科技研发的清洗剂具有的渗入能力,以确保芯片间残留活性剂被彻底清除。
W3110水基清洗剂处理铜、铝,特别是镍等敏感材料时确保了的材料兼容性,除金属外对各种保护膜也有很好的兼容性。清洗液非常低的表面张力能够有效清除元器件底部细小间隙中的残留物,并能够轻易的被去离子水漂洗干净。
半导体在社会中的应用越来越广泛,人们对半导体器件的需求也越来越多,如整
流电路、检波电路、稳压电路和各种调制电路等,都需要用到半导体器件,但现有的对半导体器件的加工,还存在一些问题,例如半导体器件组装后芯片的清洗过程,用现有的清洗方法,其制成的产品较易造成二次玷污,二次玷污对产品电性参数的影响较大,造成了产品质量不稳定,此外,由于化学物质在芯片中的残留,在产品使用和保存中会有化学和物理反应,造成产品性能衰减,产品电性良率低,可靠性低。
BGA植球助焊膏锡膏清洗:在BGA植球工艺,无论采用助焊膏+锡球的植球方法还是采用锡膏+锡球的植球方法,焊接后都会留下导致电子迁移,漏电和腐蚀风险的焊后松香残留。需通过清洗工艺将风险降低,提高可靠性。